nanoETCH는 Moorfield의 독특한 소프트 에칭 기술을 기반으로, 편리한 벤치탑 패키지에서 그래핀과 2D 재료의 연구에 중요한 미세 에칭 제어 성능을 제공합니다.
Techniques:
Soft-etching technology
본 장비는 기존 에칭 솔루션과 달리 그래핀과 2D 재료의 주요 응용 분야에서 고성능의 에칭 결과를 낼 수 있는 기기입니다. 즉,
- Substrate preparation for flake exfoliation: Large-area flakes through surface conditioning
- Clean material patterning: Graphene removal without resist residues
- Defect engineering: Creating defects in graphene layers
시스템의 표준 구성으로써 최대 3" 직경의 기판을 수용하는 데 적합하고, turbomolecular pumping system은 오염 없는 구동이 가능하게 합니다. 기판이 스테이지에 놓이고 낮은 파워에서 미세 제어가 가능하도록 설계된 RF 장치에서 파워가 공급됩니다. 모델링된 챔버 내 RF 어쿠스틱과 함께 장비의 고유한 기능이 수행됩니다.
시스템은 데이터 로깅을 위해 PC에 연결할 수 있습니다. nanoETCH 도구는 현재 ICFO(스페인), Cambridge Graphene Center 및 UK National Graphene Institute를 포함한 주요 그래핀/2D 재료 연구 실험실에서 사용되고 있습니다.
Key features
- Benchtop configuration
- Soft-etching technology: Precision RF power <30 W
- MFC-controlled process gases
- Up to 6” diameter stages
- Fully automatic operation via touchscreen HMI
- Define/save multiple process recipes
- PC connection for data-logging
- Base pressures <5 × 10-7mbar
- Equipped for easy servicing
- Comprehensive safety features
- Cleanroom compatible
- Proven performance
Options
- Dry backing pump
- Fast chamber vent
- Ultra-high resolution RF power control
- Automatic high-resolution pressure control
- Additional process gases
Service requirements
All nanoETCH systems require chilled water, dry compressed air, nitrogen for venting (optional), process gas supplies, and electrical power. Exact requirements will be provided with quotations or on request.
