Ion Milling 

Soft-etching

Moorfield의 소프트 에칭 기술은 세계 최고의 2D 재료 연구에 있어서 기재와 장치의 미세 제어를 제공하는 최적의 독특한 기술을 사용합니다.

Soft-etching technology from Moorfield is unique in providing the fine control needed for substrate and device preparation in world-leading 2D materials research. 

• 기계적인 제거를 위한 기재 처리: Sticky-tape method이라고 알려진 mechanical exfoliation를 통해 2D 재료 '플레이크(flakes)'를 처리할 때 기재 표면의 특성이 중요합니다. Soft-etching system는 큰 플레이크 영역을 생성하는 데 필요한 토폴로지 및 화학적 기재 표면의 특성(topological and chemical substrate surface property)을 얻는 데 사용됩니다.
• 2D 재료 패터닝: 2D 재료는 얇기 때문에 깨지기 쉬우며 디바이스 제작을 위해서는 미세하게 에칭 조건을 컨트롤할 필요가 있습니다. Soft-etching 기술은 이러한 제어를 수행하며 또한 일반적인 마스크 포토레지스트(mask photoresist, 예: PMMA)를 가교결합없이 패터닝합니다.
• 결함 엔지니어링(Defect engineering): 그래핀 과학의 핵심 연구 주제는 결함 엔지니어링입니다. 소프트 에칭 기술은 낮은 플라즈마 파워를 컨트롤함으로써, 재료의 이러한 측면을 위한 제어하도록 격자에서 점 결함(point defects)을 생성하는 데 사용됩니다. 재현 가능한 결과와 통제되지 않은 재료 파괴를 방지하려면 정밀한 제어가 필요합니다.

Developed in collaboration with the Nobel Prize-winning graphene group at Manchester University, UK.

Headed by Prof. Andre Geim, the graphene group at the University of Manchester received their first soft-etching system from Moorfield when they started their 2D materials research over 10 years ago. Since then, the system has become a critical part of all experimental work.

Moorfield technology is unique and offers unmatched performance for these applications. In recognition of this, we have recently installed 3 soft-etching systems into the new National Graphene Institute in the UK. We can now offer a dedicated nanoETCH system, incorporate the technology into our MiniLab tools, or provide components and advice for their retrofitting.

Moorfield systems for Soft-etching:

MiniLab

Moorfield의 MiniLab 제품군은 고품질의 R&D와 파일럿 스케일의 생산을 위한 탄력적인 모듈형 PVD 시스템입니다. 본 장비는 커스터마이즈, 고객의 요구 사항에 맞춘 시스템 구성이 가능합니다.  Read more
The MiniLab range from Moorfield: Flexible, modular PVD systems for high-quality R&D and pilot-scale production. The tools are highly customisable and highly adaptable to suit your needs.

• Compact, floor-standing tools
• Thermal evaporation
• Low-temperature evaporation
• Electron-beam evaporation
• Magnetron sputtering

 

nanoETCH

nanoETCH는 Moorfield의 독특한 소프트 에칭 기술을 기반으로, 편리한 벤치탑 패키지에서 그래핀과 2D 재료의 연구에 중요한 미세 에칭 제어 성능을 제공합니다. Read more
The nanoETCH implements Moorfield’s unique soft-etching technology and provides the fine etching control crucial for graphene and 2D materials research in a convenient, benchtop package. 

 

• Substrate preparation for flake exfoliation: Large-area flakes through surface conditioning
• Clean material patterning: Graphene removal without resist residues
• Defect engineering: Creating defects in graphene layers

 

Application for Soft-etching: