VACUUM DEPOSITION SYSTEMS
당사 (주)연진에스텍은 컴팩트한 진공증착장비에서 부터 고성능의 생산/파일럿/R&D 형의 HV/UHV 진공증착장비와 PVD, CVD, Soft-etching system, Evaporation System, Multi-chamber system, 진공열처리 시스템, 글러브박스 통합형 진공증착시스템, ALD (Atomic Layer Deposition), PLD (Pulsed Laser Deposition), MBE (Molecular Beam Epitaxy) 시스템을 공급합니다.
Nanoparticle deposition source
- Nanoparticle coating source
- Ultra-pure nanoparticle
- Triple-head source for compound nanoparticle
- QNF Mass Filter
- Advanced nanoparticle generation
- From battery electrode to CNT growth
Thin Film Deposition System
Thin Film Deposition System - HEX and HEX-L
HEX-L Cluster System
- Thin Film Deposition Deposition Sources
- Sample stages
- Thin Film Deposition Components and Software
- HEX Sereis Glovebox Integration
Atomic Layer Deposition ALD
Thermal ALD
Plasma ALD
Ozone generator
- Standard recipes pre-loaded
- Exact mix of recipes TBD
- Process development support
Magnetron Sputtering system
- Upto 11” diameter substrate
- Flexible, modular PVD systems for high-quality R&D and pilot-scale production.
- Moorfield’s flagship range of products.
- Highly customisable and highly adaptable
Evaporation system
E-beam Evaporation System - MiniLab 090, MiniLab 080, MiniLab 060
Low Temprerature Evaporation System - MiniLab, nanoPVD-T15A
Combined ALD + PVD System
PVD Overview
Molecular Beam Epitaxy MBE
MBE + Evaporation source, Effusion cell, Electron beam evaporator, Sublimation source, Gas source
Pulsed Laser Deposition PLD
Chemical Vapour Deposition
nanoCVD-8N : High-throughput Carbon nanotube 합성을 위한 소형 턴키 방식의 scale-up 가능한 입증된 CVD 시스템.
nanoCVD-8G : High-quality Graphene을 빠르게 합성하는 데 사용되는 on-demand 벤치탑 그래핀 CVD 시스템. 오염과 운영 비용을 줄이고 조건 제어를 강화하기 위한 완전 자동화된 콜드 월(cold-wall) 기술 적용.
Vacuum Annealing System
Moorfield Nanotechnology는 낮은 압력과 불활성 및 반응성 분위기에서 고온의 시료 처리를 위한 완벽한 열처리 시스템과 맞춤형 컴포넌트를 생산합니다. Moorfield의 진공 어닐링 시스템은 특정 분위기에서 최대 1000°C까지 기재의 온도를 정밀하게 가열, 제어하는 완벽한 시스템으로써, 용도에 따라 다양한 히팅 기술이 사용되고, 히팅 스테이지 및 파워 서플라이를 포함한 독립형 컴포넌트가 제공됩니다.
ANNEAL - Moorfield의 vacuum annealing system은 특정 분위기에서 2D 재료와 웨이퍼의 열처리에 최적화되었습니다. 최대 1000 °C의 고온진공 어닐링, 정밀한 gas / pressure control - all in a benchtop package.
Quartz lamp, Carbon-carbon composite (CCC), SiC-coated graphite, Heating control resolution ±1 °C.
Soft-etching System
소프트 에칭 기술은 기재와 디바이스 선정에 필요한 미세한 제어능력을 제공함으로써 세계 최고의 2D 재료 연구를 돕는 Moorfield의 독특한 기술입니다. "Soft-etching technology from Moorfield is unique in providing the fine control needed for substrate and device preparation in world-leading 2D materials research."
MiniLab - 고급 연구개발 및 파일럿 생산을 위한 탄력적인 모듈형 PVD 시스템.
nanoETCH - nanoETCH는 Moorfield의 독특한 소프트 에칭 기술을 구현하는 편리한 벤치탑 패키지로써, 그래핀과 2D 재료 연구를 위한 중요한 미세 에칭 성능을 제공합니다.
nanoEM - 연구 개발의 완벽한 기능을 세트로 갖춘 최초의 전자 현미경 코팅 장비 (electron microscopy coating tool).
Plasma Treatment System
Plasma Treatment System
Plasma Treatment System
Glovebox integrated system
Physical vapour deposition (PVD)과 etching, annealing processes를 위한 glovebox-compatible MiniLab system
- MiniLab 090 : 대기 노출에 민감한 어플리케이션을 위한 글로브박스. 깊이 있는 챔버는 고성능 증발에 이상적이지만, 마그네트론 스퍼터링에도 사용할 수 있습니다. "Glovebox-compatible for atmosphere-sensitive applications. Tall chambers are ideal for high-performance evaporation, but magnetron sputtering is also available."
- MiniLab 026 : 접근이 쉬운 ‘clam-shell’ chamber가 쓰이는 컴팩트한 floor standing 진공 증착장비. 증착 및 스퍼터링 기술을 통한 금속, 유전체 및 유기물 증착에 적합합니다. "Compact floor standing vacuum evaporators with easy-access ‘clam-shell’ chambers. Suitable for metal, dielectric and organics deposition via evaporation and sputtering techniques."