VACUUM DEPOSITION SYSTEMS
당사 (주)연진에스텍은 컴팩트한 진공증착장비에서 부터 고성능의 생산/파일럿/R&D 형의 HV/UHV 스퍼터와 PVD, CVD, Soft-etching system, 이온밀링시스템 (Ion Milling System), Evaporation System, Multi-chamber system, 진공열처리 시스템, 글러브박스 통합형 진공증착시스템, ALD (Atomic Layer Deposition), PLD (Pulsed Laser Deposition), MBE (Molecular Beam Epitaxy) 시스템을 공급합니다.
PLD with Rheed
Sputtering System (스퍼터)
- nanoPVD - 컴팩트한 벤치탑 패키지의 고성능, 고진공 PVD 시스템. 다양한 R&D 박막 증착 애플리케이션을 위한 우수하고 효율적인 성능.
- MiniLab - 고급 연구개발 및 파일럿 생산을 위한 탄력적인 모듈형 PVD 시스템.
- Compact Sputtering Systems - 컴팩트한 HV 및 UHV 버전의 광범위한 기능.
- Flagship Sputtering Systems - 최대 탄력성을 갖춘 세미스 커스터마이즈의 대형 HV, UHV 스퍼터링 장비.
- Batch Coating Systems - 파일럿 규모 생산 작업을 위한 맞춤형 엔지니어링의 HV 스퍼터링 장비.
Chemical Vapour Deposition (CVD System)
- nanoCVD-WPG : High-quality Graphene을 빠르게 합성하는 데 사용되는 소형 강화플라즈마 웨이퍼 스케일의 CVD 시스템.
- nanoCVD-8N : High-throughput Carbon nanotube 합성을 위한 소형 턴키 방식의 scale-up 가능한 입증된 CVD 시스템.
- nanoCVD-8G : High-quality Graphene을 빠르게 합성하는 데 사용되는 on-demand 벤치탑 그래핀 CVD 시스템. 오염과 운영 비용을 줄이고 조건 제어를 강화하기 위한 완전 자동화된 콜드 월(cold-wall) 기술 적용.
Evaporation System
Compact Evaporation
- Thermal Evaporation System - Edwards e360, MiniLab, nanoPVD-T15A
- E-beam Evaporation System - MiniLab 090, MiniLab 080, MiniLab 060
- Low Temprerature Evaporation System - MiniLab, nanoPVD-T15A
Multi-functional Evaporation
- E-Beam Evaporation System - Rotary, linear pocket e-gun을 장착한 HV, UHV E-Beam 증착시스템.
- Thermal Evaporation System - 300 Amp thermal evaporation source를 장착한 HV, UHV 고온증착시스템
Soft-etching System
소프트 에칭 기술은 기재와 디바이스 선정에 필요한 미세한 제어능력을 제공함으로써 세계 최고의 2D 재료 연구를 돕는 Moorfield의 독특한 기술입니다. "Soft-etching technology from Moorfield is unique in providing the fine control needed for substrate and device preparation in world-leading 2D materials research."
- MiniLab - 고급 연구개발 및 파일럿 생산을 위한 탄력적인 모듈형 PVD 시스템.
- nanoETCH - nanoETCH는 Moorfield의 독특한 소프트 에칭 기술을 구현하는 편리한 벤치탑 패키지로써, 그래핀과 2D 재료 연구를 위한 중요한 미세 에칭 성능을 제공합니다.
- nanoEM - 연구 개발의 완벽한 기능을 세트로 갖춘 최초의 전자 현미경 코팅 장비 (electron microscopy coating tool).
Ion Milling System
- Ion milling systems - 기판 냉각 및 SIMS end point detection 기능이 있는 다양한 크기의 physical etching tool. 최대 직경 22 cm의 RF 이온 소스 및 DC 이온 소스. 대면적의 소스를 위한 편리한 슬라이드 레일 액세스.
"Physical etching tools in various sizes with substrate cooling and SIMS end point detection. RF and DC Ion sources available up to 22 cm diameter. Convenient slide rail access for larger sources"
Multi-Technique System
- Multi-Chamber Systems - 두 개의 연결된 챔버를 통해 증착과 밀링, 어닐링, PLD, load-lock 및 분석평가
"With deposition, milling, evaporation, annealing, PLD, load-lock and analysis in connected chambers." - Hybrid Systems - 증착과 밀링, 증발, 어닐링, PLD 및 분석 과정이 조합된 로드락 single chamber로 구성됩니다.
"Load-locked single chambers with some combination of deposition, milling, evaporation, annealing, PLD and analysis."
AJA International ATC-M 시리즈 Multi-Technique System은 싱글 챔버 (하이브리드 시스템) 또는 멀티 챔버 (멀티 챔버 시스템)에서 다양한 박막 증착 (thin film deposition)과 이온 밀링 (ion milling), 분석 과정을 결합하여 진공상태를 유지하면서 기재 또는 기판 (substrate)을 in-situ로 작업하는 "공정과 공정을 잇는" 다목적 장비입니다. HV 또는 UHV로 구성되며, 원통형 또는 박스형, 가공 챔버 스타일로 구축할 수 있습니다.
Vacuum annealing system
Moorfield Nanotechnology는 낮은 압력과 불활성 및 반응성 분위기에서 고온의 시료 처리를 위한 완벽한 열처리 시스템과 맞춤형 컴포넌트를 생산합니다. Moorfield의 진공 어닐링 시스템은 특정 분위기에서 최대 1000°C까지 기재의 온도를 정밀하게 가열, 제어하는 완벽한 시스템으로써, 용도에 따라 다양한 히팅 기술이 사용되고, 히팅 스테이지 및 파워 서플라이를 포함한 독립형 컴포넌트가 제공됩니다.
- ANNEAL - Moorfield의 vacuum annealing system은 특정 분위기에서 2D 재료와 웨이퍼의 열처리에 최적화되었습니다. 최대 1000 °C의 고온진공 어닐링, 정밀한 gas / pressure control - all in a benchtop package.
Quartz lamp, Carbon-carbon composite (CCC), SiC-coated graphite, Heating control resolution ±1 °C.
Glovebox integrated system
Physical vapour deposition (PVD)과 etching, annealing processes를 위한 glovebox-compatible MiniLab system
- MiniLab 090 : 대기 노출에 민감한 어플리케이션을 위한 글로브박스. 깊이 있는 챔버는 고성능 증발에 이상적이지만, 마그네트론 스퍼터링에도 사용할 수 있습니다. "Glovebox-compatible for atmosphere-sensitive applications. Tall chambers are ideal for high-performance evaporation, but magnetron sputtering is also available."
- MiniLab 026 : 접근이 쉬운 ‘clam-shell’ chamber가 쓰이는 컴팩트한 floor standing 진공 증착장비. 증착 및 스퍼터링 기술을 통한 금속, 유전체 및 유기물 증착에 적합합니다. "Compact floor standing vacuum evaporators with easy-access ‘clam-shell’ chambers. Suitable for metal, dielectric and organics deposition via evaporation and sputtering techniques."