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Vacuum Deposition System from Moorfield Nanotechnology, UK

Physical Vapour Deposition (PVD) , Chemical Vapour Deposition (CVD)

Evaporation, Soft-etching, Annealing (Thermal Processing), Electron microscopy coating

진공증착시스템 (Vacuum Deposition System)

nanoCVD-8N

nanoCVD-8N CVD 시스템은 고성능 탄소 나노튜브 합성을 위한 턴키 방식의 확장 가능한 컴팩트 CVD 시스템입니다. 

"A compact, turn-key and scalable CVD system for high-throughput carbon nanotube synthesis – with proven performance."

 


Techniques:

Chemical vapour deposition (CVD)

nanoCVD-8N은 주로 signle wall form인 표면결합 탄소 나노튜브(CNT) 어레이의 재현성있는 생산에 있어 온도와 기체 화학과 같은 조건에 대한 정밀한 제어를 제공합니다.

CVD의 cold -wall을 변형하여 nanoCVD-8N 구현하였으며, tube-furnace에 비해 오염이 적고 운영비를 절감하면서 컨트롤하도록 개발되었습니다.

HMI 터치스크린으로 구동하고, 모든 하드웨어가 완전히 자동화된 레시피 기반으로 운영됩니다. 포괄적인 안전 기능과 함께, 사용자와 시스템 자체를 보호합니다. 기기와 함께 제공되는 PC 소프트웨어를 이용해 데이터 로깅과 오프라인 레시피 정의가 가능합니다. 

Systems are quick to install and ideal for research groups requiring ongoing rapid access to high-quality CNTs for R&D applications.

Depending on recipes and substrate/catalyst combinations, nanoCVD-8N units can create different CNT morphologies:

  • Random: Multiply interconnected SWNTs
  • Aligned: Parallel SWNTs
  • ‘Forests’: Vertically stacked SWNTs

CNTS can be formed using a variety of substrates, such as SiO2/Si, Si3N4 and quartz, while typical catalysts include nanoparticles of Fe, Co and Ni.

 

Key features

  • 초소형의 벤티탑 대기압 CVD 시스템
  • 재현성 있는 고품질의 탄소나노튜브 합성
  • Single-walled carbon nanotube에 최적화되었습니다.
  • 정밀한 조건제어
  • 최대 온도 1100 °C
  • MFC-controlled process gases (argon, hydrogen and methane)
  • 기판 크기 20 × 40 mm2 max.
  • 30분 이내의 처리시간
  • 완전자동 
  • 사용자 편의의 터치스크린 인터페이스 
  • 다양한 growth recipe의 정의 및 저장
  • 데이터 로깅을 위한 PC connection 
  • 손 쉬운 서비스를 위한 장치 
  • 포괄적 안전성을 특정으로 합니다. 
  • 클린룸 호환
  • 입증된 성능

 

Options

  • The nanoCVD-8N is available with a rotary or scroll (dry) backing pump.

 

Typical configurations

  • The nanoCVD-8N is a standardised system.

 


 

 
The nanoCVD-8N provides precise control over conditions such as temperature and gas chemistry that are critical for reproducible production of surface-bound carbon nanotube (CNT) arrays, primarily the single-walled form.
Developed in collaboration with leading academic partners, the units implement the cold-wall variant of the CVD method, enabling reduced contamination, low running costs and better control as compared to tube-furnace counterparts.
User operation is via a touchscreen HMI and is recipe-based, with all hardware being fully automated. Comprehensive safety features protect users and the system itself. Included PC software enables data-logging and offline recipe definition. All units come with expert support.
Systems are quick to install and ideal for research groups requiring ongoing rapid access to high-quality CNTs for R&D applications.

 

Service requirements

  • The nanoCVD-8N requires inert service gas, high-purity process gases (argon, hydrogen and methane) and electrical power.
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