nanoCVD-8G는 고품질의 그래핀을 빠르게 합성하는 데 사용되는 주문형 벤치탑의 그래핀 CVD 시스템으로써, 오염을 낮추고 운영 비를 줄여주는 장비입니다. 조건 제어를 강화한 완전 자동화된 콜드 월(cold-wall) 기술을 채용하였습니다.
"A benchtop graphene CVD system for rapid, on-demand synthesis of high-quality graphene. Fully automated cold-wall technology for reduced contamination and running costs, and enhanced conditions control."
Techniques:
Chemical vapour deposition (CVD)
학계와 협력하여 개발된 nanoCVD-8G는 성공적인 그래핀 생산에 필요한 압력, 온도 및 가스 화학(gas chemistry)과 같은 조건을 정밀하게 제어하는 그래핀 CVD 시스템입니다.
이 장치는 CVD 기법의 cold-wall을 변형하여, tube-furnace 비해 오염이 적고, 운영비가 낮으며, 더 나은 컨트롤이 가능합니다.
터치스크린 (HMI)을 통해 운영되며, 모든 하드웨어가 완전히 자동화된 레시피를 기반으로 구동됩니다. 사용자와 시스템 자체는 포괄적인 안전 기능으로 부터 보호됩니다. PC 소프트웨어로 데이터 로깅 및 오프라인 레시피 정의(data-logging and offline recipe definition)가 가능합니다.
R&D 애플리케이션을 위한 신속한 고품질의 그래핀 연구에 이상적인 CVD 시스템입니다.
Key features
- 초소형의 벤치탑 CVD 시스템
- 고품질의 그래핀 합성에 필요한 높은 재현성
- 정밀한 조건 제어
- 1100°C의 최대 온도
- 30분 이내의 처리 시간
- 기판 크기: 최대 20 × 40 mm2
- 전자동 (full-automatic system)
- 사용자 친화적인 HMI 터치스크린
- 여러개의 레시피 정의 및 저장
- 데이터 로깅을 위한 PC 소프트웨어 제공
- 손 쉬운 서비스
- 포괄적인 안전 기능
- 클린룸 호환
- 입증된 성능
Options
- The nanoCVD-8G is available with a rotary or scroll (dry) backing pump.
Typical configurations
- The nanoCVD-8G is a standardised system.
Service requirements
- The nanoCVD-8G requires inert service gas, high-purity process gases (argon, hydrogen and methane) and electrical power.