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Vacuum Deposition System from Moorfield Nanotechnology, UK

Physical Vapour Deposition (PVD) , Chemical Vapour Deposition (CVD)

Evaporation, Soft-etching, Annealing (Thermal Processing), Electron microscopy coating

진공증착시스템 (Vacuum Deposition System)

nanoCVD-8G

nanoCVD-8G는 고품질의 그래핀을 빠르게 합성하는 데 사용되는 주문형 벤치탑의 그래핀 CVD 시스템으로써, 오염을 낮추고 운영 비를 줄여주는 장비입니다. 조건 제어를 강화한 완전 자동화된 콜드 월(cold-wall) 기술을 채용하였습니다.

"A benchtop graphene CVD system for rapid, on-demand synthesis of high-quality graphene. Fully automated cold-wall technology for reduced contamination and running costs, and enhanced conditions control."

 

Techniques:

Chemical vapour deposition (CVD)

 

학계와 협력하여 개발된 nanoCVD-8G는 성공적인 그래핀 생산에 필요한 압력, 온도 및 가스 화학(gas chemistry)과 같은 조건을 정밀하게 제어하는 그래핀 CVD 시스템입니다.

이 장치는 CVD 기법의 cold-wall을 변형하여, tube-furnace 비해 오염이 적고, 운영비가 낮으며, 더 나은 컨트롤이 가능합니다.

터치스크린 (HMI)을 통해 운영되며, 모든 하드웨어가 완전히 자동화된 레시피를 기반으로 구동됩니다. 사용자와 시스템 자체는 포괄적인 안전 기능으로 부터 보호됩니다. PC 소프트웨어로 데이터 로깅 및 오프라인 레시피 정의(data-logging and offline recipe definition)가 가능합니다. 

R&D 애플리케이션을 위한 신속한 고품질의 그래핀 연구에 이상적인 CVD 시스템입니다.

 

Key features

  • 초소형의 벤치탑 CVD 시스템
  • 고품질의 그래핀 합성에 필요한 높은 재현성 
  • 정밀한 조건 제어
  • 1100°C의 최대 온도
  • 30분 이내의 처리 시간 
  • 기판 크기: 최대 20 × 40 mm2
  • 전자동 (full-automatic system)
  • 사용자 친화적인 HMI 터치스크린 
  • 여러개의 레시피 정의 및 저장
  • 데이터 로깅을 위한 PC 소프트웨어 제공
  • 손 쉬운 서비스
  • 포괄적인 안전 기능
  • 클린룸 호환
  • 입증된 성능

 

Options

  • The nanoCVD-8G is available with a rotary or scroll (dry) backing pump.

 

Typical configurations

  • The nanoCVD-8G is a standardised system.

 


 

 

 

 

nanoCVD-8G 

"A benchtop graphene CVD system for rapid, on-demand synthesis of high-quality graphene. Fully automated cold-wall technology for reduced contamination and running costs, and enhanced conditions control."

Developed in collaboration with academic groups, the nanoCVD-8G is a graphene CVD system that provides precise control over conditions such as pressure, temperature and gas chemistry – critical for successful production of graphene.
The units implement the cold-wall variant of the CVD method, enabling reduced contamination, low running costs and better control as compared to tube-furnace counterparts.
User operation is via a touchscreen HMI and is recipe-based, with all hardware being fully automated. Comprehensive safety features protect users and the system itself. Included PC software enables data-logging and offline recipe definition. All units come with expert support.
Systems are quick to install and ideal for research groups requiring ongoing rapid access to high-quality graphene for R&D applications.

 

Service requirements

  • The nanoCVD-8G requires inert service gas, high-purity process gases (argon, hydrogen and methane) and electrical power.
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