Praseodymium Oxide Sputtering Target, Pr6O11

Sputtering Targets

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Different Shapes of Sputtering Targets

(주)연진에스텍은 Planar (Flat) Target과 Rotary (Cylindrical) Target, Circular (Disc)Target 및 Ring Target 등 대부분의 증착 공정에 부합하는 다양한 형태의 스퍼터링 타겟을 제공하며, 특이한 요청 시 타겟 크기의 커스터마이즈가 가능합니다.

Key Features

High Purity & Performance: 일관된 증착 품질과 오염을 줄이도록 가공합니다.
Material Variety: 다양한 응용 분야의 요구 사항에 맞게 순수 금속, 합금, 세라믹 및 화합물로 제공됩니다.
Custom Manufacturing: 특정 시스템의 필요요구 사항에 맞게 크기와 형태, 조성을 맞춤화했습니다.
Precision Design: 반복 가능하고 균일한 박막 결과를 위해 엄격한 공차로 제조되었습니다.
Flexible Supply Chain: 최고의 제조업체와 강력한 파트너십을 통해 일관된 품질과 on-time 납품을 보장합니다.

OXIDE TARGET

Praseodymium Oxide Sputtering Target, Pr6O11

YEONJIN S-Tech Corporation

조회수 36 2025. 10. 07. 22:08:18

Praseodymium Oxide Sputtering Target

Description

Praseodymium oxide sputtering target from Stanford Materials Corporation (SMC) is an oxide sputtering material containing Pr and O.

Praseodymium Oxide Sputtering Target Specification

Compound Formula	Pr₆O₁₁
Molecular Weight	1021.44
Appearance	Target
Melting Point	2183 °C
Boiling Point	3760 °C
Density	6.5 g/cm³
Available Sizes	Dia.: 1.0″, 2.0″, 3.0″, 4.0″, 5.0″, 6.0″ Thick: 0.125″, 0.250″

Praseodymium Oxide Sputtering Target Packaging

Our praseodymium oxide sputtering target is clearly tagged and labeled externally to ensure efficient identification and quality control. Great care is taken to avoid any damage which might be caused during storage or transportation.

1670894248-normal-praseodymium-oxide-sputter-target.jpg (29.49kB)

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